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模具技術

塑膠模具抛光主要材料有哪些?

發布日期:2014-07-24 17:20:34

塑膠模具抛光主要材料:

  模具抛光主要使用砂紙和煤油。砂紙的号數依次為:#400 - #600 - #800 - #1000 - #1200 - #1500。

實際上#1500砂紙隻用适于淬硬模具鋼(52HRC以上),而不适用于預硬鋼,因為這樣可能會導緻預硬鋼件表

面燒傷。精抛主要使鑽石研磨膏。若通常的研磨順序是9um(#1800)-6um(#3000)-um(8000)。9um的鑽石研磨

膏和抛光布輪可用來去除#1200和#1500号砂紙留下的發狀磨痕。接着用粘氈和鑽石研磨膏進行抛光,順序

為1um(#14000)-1/2um(60000)-1/4um(#100000)。精度要求在1um以上(包括号1um)的抛光工藝在模具的抛光

則必須一個絕對潔淨的空間。灰塵、煙霧,頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個小時工作後得到的高精度抛

光表面。

抛光方法目前常用的抛光方法有以下幾種:

機械抛光機械抛光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被抛光後的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉體表面,可使用轉台等輔助工具,表面質量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種抛光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。

化學抛光化學抛光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需複雜設備,可以抛光形狀複雜的工件,可以同時抛光很多工件,效率高。化學抛光的核心問題是抛光液的配制。化學抛光得到的表面粗糙度一般為數10μm。

  電解抛光電解抛光基本原理與化學抛光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學抛光相比,可以消除陰極反應的影響,效果較好。電化學抛光過程分為兩步:

(1)宏觀整平溶解産物向電解液中擴散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。

(2)微光平整陽極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。

   超聲波抛光将工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削抛光。超聲波加工宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上,再施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表面溶解産物脫離,表面附近的腐蝕或電解質均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程,利于表面光亮化

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